行业新闻

能够无效去除原水中的各类杂质

  半导体在常温下是介于导体和绝缘体之间的材料,半导体生产和清洗需要对水有一定要求,电阻率要在16兆欧以上。120T/H半导体清洗用超纯水设备采用先进的制水技术,可以有效去除原水中的各种杂质,出水水质可以达到18兆欧以上,完全满足行业用水需求。

  半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

  1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

  2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

  3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

联系我们

CONTACT US

联系人:张先生

手机:028-61831100

电话:028-61831100

邮箱:epptime@epptime.com

地址:成都市高新区天府软件园D区D6栋